光刻机简介：微纳加工领域的关键设备

光刻机是一种利用光学原理将图案投射到光敏材料上的设备，用于制造微电子芯片等微纳加工领域。它通常由光源、掩模、透镜系统、平台及控制系统等组成。光刻机的主要作用是将掩模上的图案通过透镜系统投射到光敏材料表面，并通过光敏化学反应产生微小的图形或结构。光刻机的精度和分辨率非常高，可以制造出微米级别的图形和结构，是微纳加工领域中不可或缺的工具。