光刻机精度：分辨率、影响因素及最新进展

光刻机的精密度是指其制造出的芯片的精细程度。它通常用分辨率来衡量，分辨率越高，芯片制造出来的精细度就越高。现代光刻机的分辨率通常在10纳米到20纳米之间，而最先进的光刻机甚至可以达到7纳米的分辨率。除了分辨率之外，光刻机的精密度还取决于光刻胶的质量、光源的稳定性、光刻机的机械稳定性等因素。

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