以下是电子产品(请参阅受控物品清单):\r\n\r\n- 通用目的的"电子组件",模块和设备(请参阅受控物品清单)。\r\n- "喷雾冷却热管理系统",采用封闭环路液体处理和再生设备,在密封的容器中将介质液体喷洒到电子"元件"上,使用"专门设计"的喷嘴,旨在将电子"元件"保持在其工作温度范围内,并为此而设计的"特殊设计"的"元件"。\r\n- 集成电路(请参阅受控物品清单)。\r\n- 电子设备,装置,"零件"和"组件",不包括受3A001控制的物品(请参阅受控物品清单)。\r\n- 电子"零件"和"组件",不包括受3A001控制的物品(请参阅受控物品清单)。\r\n- 可用作可变频率或固定频率电动机驱动器,并具有本条目所描述的所有特征的变频器(也称为转换器或逆变器)和发电机,不包括受核规管委员会出口许可机构(参见10 CFR第110部分)管辖的物品(请参阅受控物品清单)。\r\n- 具有以下两个特征的高功率直流电源(请参阅受控物品清单),不包括受核规管委员会出口许可机构(参见10 CFR第110部分)管辖的物品。\r\n- 具有以下两个特征的高压直流电源(请参阅受控物品清单),不包括受核规管委员会出口许可机构(参见10 CFR第110部分)管辖的物品。\r\n- 如下所示的开关装置(请参阅受控物品清单)。\r\n- 用于受3A232控制的雷管的点火装置和等效高电流脉冲发生器(请参阅受控物品清单)。\r\n- 具有以下两个特征的高速脉冲发生器及其脉冲头(请参阅受控物品清单)。\r\n- 具有本条目所述特征的中子发生器系统,包括管(请参阅受控物品清单)。\r\n- 如下所示的雷管和多点起爆系统(请参阅受控物品清单)。\r\n- 质谱仪,能够测量230原子质量单位或更大的离子,并具有分辨率优于230中的2部分的能力,以及其离子源(不包括受核规管委员会出口许可机构(参见10 CFR第110部分)管辖的物品)(请参阅受控物品清单)。\r\n- 具有以下特征的带来低感抗路径以用于雷管的带状线(请参阅受控物品清单)。\r\n- 军用电子设备(请参阅受控物品清单)。\r\n- 声纹识别和分析设备及其"专门设计"的"组件"(其他未列明的)。\r\n- 测谎仪(除了专门用于医疗设施监测生物和神经生理反应的生物医学记录仪);指纹分析仪,相机和设备(其他未列明的);自动指纹和识别检索系统(其他未列明的);心理应激分析设备;电子监控约束装置;以及其"专门设计"的"组件"和"配件"(其他未列明的)。\r\n- 未受3A001控制的电子设备和"组件"。\r\n- 未受3A002控制的通用目的电子设备。\r\n- 特定的加工设备(其他未列明的),请参阅受控物品清单。\r\n- "用于半导体器件或材料制造的设备"(请参阅受控物品清单)及其"专门设计"的"组件"和"配件"。\r\n- "专门设计"用于测试成品或未完成的半导体器件的测试设备(请参阅受控物品清单)及其"专门设计"的"组件"和"配件"。\r\n- 未受3B001控制的半导体制造设备(请参阅受控物品清单),以及其"专门设计"的"零件","组件"和"配件"。\r\n- 用于军用电子设备的测试,检验和生产商品(请参阅受控物品清单)。\r\n- 未受3B001或3B090控制的设备,用于制造电子"零件","组件"和材料,以及其"专门设计"的"零件","组件"和"配件"。\r\n- 未受3B002控制的设备,用于检查或测试电子"组件"和材料,以及其"专门设计"的"零件","组件"和"配件"。\r\n- 具有以下任何一种的异质外延材料,由以下任何一种的"基片"组成(请参阅受控物品清单)。\r\n- 如下所示的抗阻材料(请参阅受控物品清单)。\r\n- 未经3C001指定的材料,由3C005指定的"基片"和至少一层碳化硅(SiC),氮化镓(GaN),氮化铝(AlN),氮化镓铝(AlGaN),氧化镓(Ga2O3)或金刚石外延层组成。\r\n- 专门调整(优化)用于在波长在370到193纳米之间使用的半导体光刻的正性感光胶。\r\n- "专门设计"用于"开发"或"生产"受3A001.b到3A002.h,3A090或3B(除3B991和3B992外)控制的商品的"软件"。\r\n- "专门设计"用于受3B001.a到.f或3B002控制的设备的"使用"的"软件"。\r\n- "计算光刻""软件","专门设计"用于在EUV光刻掩膜上或光刻掩膜上开发图案。\r\n- "专门设计"用于3A003控制的设备的"开发"的"软件"。\r\n- "专门设计"用于在电磁脉冲(EMP)或静电放电(ESD)干扰后在1毫秒内恢复微型计算机,"微处理器微电路"或"微型计算机微电路"正常运行的"软件",而不会中断运行

电子产品出口管制清单

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