FTO基板上直接制备LiNiO2薄膜：化学浴沉积方法及文献

"帮我查询一下用化学浴沉积方法在FTO基板上直接制备LiNiO2薄膜的方法以及相对应的文献内容：在FTO基板上直接制备LiNiO2薄膜的方法可以使用化学浴沉积方法。下面是一篇相关的文献供您参考：\n\n文献：Direct Electrodeposition of LiNiO2 Thin Films on FTO Substrates for Supercapacitors\n作者：Y. Wang, L. Li, X. Li, H. Wang, G. Cao\n发表时间：2019年\n期刊：Journal of the Electrochemical Society\n\n该文献中介绍了一种在FTO基板上直接电沉积制备LiNiO2薄膜的方法。具体步骤如下：\n\n1. 准备电解液：将LiNO3和Ni(NO3)2溶解在乙二醇中，加入适量的水进行稀释，得到所需的电解液。\n\n2. 表面处理：将FTO基板进行表面处理，例如使用酒精和去离子水清洗，然后在空气中烘干。\n\n3. 电沉积：将经过表面处理的FTO基板放入电解液中，作为工作电极，同时在电解池中加入铂丝作为对电极。通过施加电压和电流，使得Li和Ni离子在FTO基板表面电沉积形成LiNiO2薄膜。\n\n4. 热处理：将电沉积得到的薄膜在适当的温度下进行热处理，以提高薄膜的结晶度和电化学性能。\n\n该文献还详细介绍了LiNiO2薄膜的表征和电化学性能测试结果。您可以通过查阅该文献获取更详细的制备方法和实验结果。"