半导体工艺中金属膜测量方法：电子束蒸发仪、扫描电子显微镜等

在半导体工艺中，测量金属膜的常用机台是电子束蒸发仪和扫描电子显微镜（SEM）。电子束蒸发仪通过测量蒸发器中的金属膜厚度来确定金属膜的厚度。扫描电子显微镜则可以通过扫描电子束来观察金属膜表面的形貌和厚度。此外，还可以使用光学显微镜、原子力显微镜和X射线衍射仪等测量金属膜的机台。

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