有机层蚀刻工艺:控制沟槽高度以实现一致性
在一种实施方式中,可以调整次级蚀刻过程时间,以便以一种方式蚀刻有机层10,使得第一沟槽P1具有第一高度(或深度),而第二沟槽P2可能具有与第一高度相等的第二高度。
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在一种实施方式中,可以调整次级蚀刻过程时间,以便以一种方式蚀刻有机层10,使得第一沟槽P1具有第一高度(或深度),而第二沟槽P2可能具有与第一高度相等的第二高度。
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