化学气相沉积法 (CVD) - 制备薄膜和纳米结构的先进技术

化学气相沉积法 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种将分子间的化学反应转化为实体的技术。它是在一种被称为沉积室的容器中，把一种物质分解成更小的分子，并将这些分子沉积到特定表面上，从而形成一层厚度很小、结构紧密、性能稳定的薄膜。化学气相沉积法大大简化了传统的表面处理工艺，可以获得精确厚度、结构和化学组成的薄膜。

CVD技术可以应用在一系列材料的制备中，包括金属、硅、半导体、金属化合物、陶瓷、有机聚合物等。CVD技术用于制备多种类型的薄膜，如金属薄膜、半导体薄膜和硅薄膜。它还可以用于制备特殊几何形状的结构，如纳米管、碳纳米管和金属纳米线。