羟基含量和密度对氧化铝负载银纳米颗粒再分散的影响

导言

氧化物表面的羟基 (OH) 基团对其表面性质和金属与氧化物的相互作用具有重要影响。本研究旨在探讨γ-氧化铝 (γ-Al2O3) 表面羟基含量和密度对负载银纳米颗粒氧化还原再分散过程的影响。

实验方法

通过在不同温度下煅烧伪勃姆石 (AlOOH) 制备了具有不同羟基含量的 γ-Al2O3 支撑体。采用原位 X 射线衍射、紫外-可见光谱、X 射线光电子能谱和透射电子显微镜等技术研究了银纳米颗粒在不同羟基含量和密度氧化铝上的再分散行为。

结果与讨论

研究发现，γ-Al2O3 表面的羟基含量和密度对银纳米颗粒的再分散过程具有显著影响：

分散能力: 具有较高羟基含量的支撑体表现出更高的分散能力，即能够锚定更多的银物种。这是因为更多的羟基提供了更多的锚定位点。* 分散速率: 具有较高羟基密度的支撑体上，银纳米颗粒的分散速率更快。这是因为较高的羟基密度促进了银物种在氧化铝表面的迁移。

结论

本研究结果表明，γ-Al2O3 表面的羟基含量和密度是影响负载银纳米颗粒再分散的关键因素。通过调控氧化铝表面的羟基含量和密度，可以有效控制银纳米颗粒的分散状态，进而调控其催化性能，例如银催化的 CO 氧化反应。

关键词: 羟基, 氧化铝, 银纳米颗粒, 再分散, 催化, CO 氧化, 表面性质