对比总结有何异同OVL量测YSPOVL2Manual实操知识 OVL是图形对准的量测使wafer上建立的层之间套壳对准。我们主要操作了两台机台：YPOVL01国产中科非测。YPOVL0机台主要是做八寸的wafer操作步骤主要是先把pcd放到smif台上然后在界面上选add job；之后选择cassette再进行product或者monitor的recipe的选择这需要参照IO手册来选择recipe

异同点：

1. 机台类型不同，操作步骤也有所不同。

2. OVL量测机台需要选择不同的recipe，而涂胶显影机台需要选择程序。

3. OVL量测机台需要输入lot id，选片，而涂胶显影机台需要选择需要操作的次数和晶片总数。

4. 曝光机台需要更换光罩，而涂胶显影机台需要将wafer整理为平边统一向上。

相同点：

1. 都需要通过界面或软件进行操作。

2. 都需要选择相应的recipe或程序。

3. 都需要确认相关信息无误后才能进行操作。

4. 都需要将wafer或晶圆放置在相应的位置上。