对比总结OVL量测YSPOVL2Manual实操知识OVL是图形对准的量测使wafer上建立的层之间套壳对准。我们主要操作了两台机台：YPOVL01国产中科非测。YPOVL0机台主要是做八寸的wafer操作步骤主要是先把pcd放到smif台上然后在界面上选add job；之后选择cassette再进行product或者monitor的recipe的选择这需要参照IO手册来选择recipe或者参照记

以上三个机台的实操知识总结如下：

1. OVL量测机台的操作步骤包括放置PCD、选择recipe、输入lot id、选片、选择cassette位置等，需要参照IO手册或记录纸来进行操作。

2. 曝光机台更换光罩的操作步骤包括确认光罩ID与MES上的一致、放置光罩靠着限位PIN、录入光罩ID、选择recipe、选择晶片等，需要注意选择正确的晶片并保证相关信息无误。

3. 涂胶显影机台的操作步骤包括将POD放到理片器上、选择recipe、选择跑的片数范围、选择操作次数等，需要注意位置对准和确认相关参数无误。在操作前需要将机台状态切换为Local状态。