表面羟基含量对AlOOH-T催化剂性能的影响研究

表面羟基含量对AlOOH-T催化剂性能的影响研究

图解: 图表展示了AlOOH-T样品中表面羟基含量的变化趋势。XPS O 1s光谱图中，位于531.1 eV和532.4 eV的两个峰分别对应于晶格氧(OL)和表面羟基(OOH)。分析显示，新鲜制备的AlOOH样品中OOH占比为55.3%。经不同温度焙烧后，AlOOH-500、AlOOH-700和AlOOH-900样品中OOH占比分别降至46.8%、32.0%和16.4%。该结果表明，随着焙烧温度的升高，AlOOH-T样品的表面羟基含量逐渐降低。该结论与原位傅里叶红外光谱(in situ FTIR)测试结果一致。

关键词: AlOOH-T, 表面羟基, 焙烧温度, XPS, TG, H-D交换