整理以下摘要：光刻工艺为得到预期结果需要进行大量实验但大量的实验会增加经济成本和时间成本。BOE-ziSIM的光刻仿真模块是基于光刻工艺物理模型以预期结果为目标对掩模版图形和光刻工艺参数进行设计与优化的软件。 该软件分为简单版本和改进版本。该软件中简单的光刻仿真只需要配置两个功能：光刻线条粗糙度和光刻胶；更精细化的仿真需要设置工艺叠层等参数、曝光参数、后烘和显影的时间和温度参数。工艺叠层中可以设置

BOE-ziSIM的光刻仿真模块是一款基于光刻工艺物理模型的软件，用于设计和优化掩模版图形和光刻工艺参数，以实现预期结果。该软件分为简单版本和改进版本，可以配置不同的参数来进行光刻仿真。设置好相关参数后，软件可以计算出光刻胶层的曝光剂量，预测光刻胶层的特性和形态分布。光刻仿真除了可以预测工艺结果，还可以提供解决工艺中缺陷的方案，降低成本。BOE-ziSIM的光刻仿真主要应用于新型显示薄膜晶体管，可以缩短开发时间，提高良率，节约成本。目前主要用户为京东方显示面板制造商和半导体行业研究机构。