铜薄膜可以做到多薄
铜薄膜可以制备得非常薄，通常厚度可以达到几纳米到几十纳米的范围。制备铜薄膜的方法包括物理气相沉积、化学气相沉积、溅射等。在一些应用中，如导电薄膜、光学薄膜、微电子器件等，需要非常薄的铜薄膜。铜薄膜的厚度越薄，其电阻率会增加，但也会带来更好的透明性和柔性。因此，制备非常薄的铜薄膜对于一些特定的应用来说是非常重要的。
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